知的財(cái)産権は重要な無(wú)形資産であり、企業(yè)価値に占める割合はますます大きくなっている。知的資本商業(yè)銀行會(huì)社OCEAN TOMOの調(diào)査によると、1975年のスタンダード＆プアーズ500企業(yè)の時(shí)価総額構(gòu)成の83%は有形資産（工場(chǎng)、機(jī)械、不動(dòng)産など）だったが、2015年になると、企業(yè)の時(shí)価総額の84%は無(wú)形資産によって決定され、主に知的財(cái)産権だった。

特許は企業(yè)の競(jìng)爭(zhēng)力として、企業(yè)の知的財(cái)産権管理の重要な內(nèi)容である。企業(yè)は特許の重要な価値を意識(shí)し、有効な方法を採(cǎi)用して特許を掘り起こすとともに、特許にレイアウトを加え、特許が企業(yè)の長(zhǎng)期的な発展に與える推進(jìn)作用を発揮しなければならない。特許の発掘と配置に対して、企業(yè)は計(jì)畫を重視し、連動(dòng)作用を発揮し、特許の価値を高めなければならない。

一、特許掘削レイアウトの意義

有効な特許掘削レイアウトは、研究開発成果に特許保護(hù)の抜け穴が生じることを回避し、技術(shù)革新に対して全面的、十分、有効な特許組み合わせを形成することができる。我が國(guó)の大多數(shù)の企業(yè)は積極的に特許掘削配置を行う意識(shí)が不足しているが、科學(xué)的な特許掘削は特許の保護(hù)範(fàn)囲をすべての特許価値のある點(diǎn)に延長(zhǎng)することができ、合理的な配置方式を通じて戦略的意義のある?yún)椕埭侍卦S網(wǎng)を形成することができ、また競(jìng)爭(zhēng)相手の核心特許に対応し、高価値特許資源の備蓄を増加させ、さらに企業(yè)自身の特許リスクの早期警報(bào)と有効な対応能力を高めることができる。

二、企業(yè)がどのように特許掘削配置を行うか

1、特許マイニングの基礎(chǔ)概念

特許マイニングは特許レイアウトを行い、特許ポートフォリオを構(gòu)築する前提である。特許掘削の全過程から見ると、特許掘削は実質(zhì)的に大放浪砂、脫蕪存菁の好ましい過程である。このプロセスの実施と展開は、まず、フィルタリング可能な大量の基礎(chǔ)原材料、さまざまな技術(shù)的アイデアと発明的アイデアを十分に得ることができることを前提としている。膨大な數(shù)の技術(shù)的アイデアと発明的アイデアがあってこそ、將來の特許出願(yuàn)の代替対象として高い技術(shù)的価値と商業(yè)的価値を持つ技術(shù)的革新點(diǎn)を選択することができる。

2、特許レイアウトの基礎(chǔ)概念

特許レイアウトは特許出願(yuàn)業(yè)務(wù)の綿密な計(jì)畫と統(tǒng)一的な手配であり、特許出願(yuàn)時(shí)間、地域とルートの選択、特許保護(hù)內(nèi)容の計(jì)畫などを通じて、戦略的に配置して特許ポートフォリオを形成し、目的があり、計(jì)畫があり、戦略がある特許戦略行為である。

三、企業(yè)特許レイアウトの方法

特許レイアウトネットワークは計(jì)畫的で戦略的な特許システム化行為である。特許保護(hù)ネットワークの構(gòu)築作業(yè)を通じて、企業(yè)特許出願(yuàn)の盲目的性とばらつき性を効果的に克服し、受動(dòng)的に特許のために特許出願(yuàn)を行うことから企業(yè)の発展ニーズに目標(biāo)があり、計(jì)畫的に特許出願(yuàn)を行うことに転換し、そのため企業(yè)特許出願(yuàn)資源の利用効率を高め、及びその特許クラスタの全體的価値を高め、企業(yè)の発展に確実かつ効果的な特許サポートを提供することができる。

企業(yè)は特許保護(hù)ネットワークを構(gòu)築する前に、全體的な目標(biāo)が何なのか、自分の技術(shù)を保護(hù)するのか、競(jìng)合他社に対抗するのかを明確にする必要があります。したがって、特許保護(hù)ネットワークの構(gòu)築目標(biāo)は、保護(hù)レイアウトと対抗レイアウトに分けることができる。

1、保護(hù)式レイアウト

保護(hù)レイアウトは一般的に企業(yè)自身の技術(shù)革新を中心に展開され、その特許は一般的に企業(yè)自身の技術(shù)や製品と密接に関連している。これらの特許の主な目標(biāo)は、企業(yè)の技術(shù)革新成果に対して十分な特許保護(hù)を提供し、企業(yè)のこの革新成果における技術(shù)獨(dú)占と競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)位性を確保し、競(jìng)爭(zhēng)相手が設(shè)計(jì)の難易度と研究開発コストを回避することを高めることである。したがって、特許保護(hù)ネットワーク構(gòu)築は以下のいくつかの側(cè)面から行うことができる。技術(shù)技術(shù)技術(shù)の保護(hù)を強(qiáng)化する。

技術(shù)の保護(hù)強(qiáng)化

企業(yè)の最も価値があり、最も競(jìng)爭(zhēng)力があるのはコア特許によって保護(hù)された技術(shù)であるため、コア特許に対して保護(hù)を強(qiáng)化し、競(jìng)爭(zhēng)相手がシームレスにドリルダウンできるようにする必要がある。図5.5-1に示すように、まず核心技術(shù)の內(nèi)容を深く掘り下げて、更に改善の角度から、核心技術(shù)特許の改善特許を掘り起こして、そして改善特許を抽象化あるいは概略化して、それによって點(diǎn)から面への保護(hù)圏を形成します。

テクノロジーの拡張保護(hù)

技術(shù)強(qiáng)化保護(hù)が完了すると、より厳密な保護(hù)を得るためには、さまざまな可能性のある特許レイアウトポイントを自分の手に握る必要があります。そのためには、技術(shù)プロセスを拡張保護(hù)する必要があり、拡張保護(hù)の角度は多く、例えば、応用、技術(shù)手段の置き換え、技術(shù)問題、回避設(shè)計(jì)などがある。

テクノロジーの継続的な保護(hù)

特許保護(hù)期間には一定の期間があり、技術(shù)の提案から工業(yè)化の実現(xiàn)、製品の市場(chǎng)投入までに長(zhǎng)い時(shí)間がかかる分野があります。そのため、保護(hù)式配置の意図と目標(biāo)を?qū)g現(xiàn)するためには、技術(shù)革新の産業(yè)化と市場(chǎng)化の進(jìn)展に伴い、後続の特許出願(yuàn)が絶えず提出され、技術(shù)の継続的保護(hù)を?qū)g現(xiàn)する必要がある。

技術(shù)技術(shù)技術(shù)に対する迷い保護(hù)

競(jìng)爭(zhēng)相手が特許出願(yuàn)公開の內(nèi)容を通じて迅速にフォローアップし、企業(yè)の技術(shù)を模倣することを避けるために、保護(hù)式特許配置を行う際に、迷い式配置を通じて、企業(yè)の真の研究開発方向または最適な実施形態(tài)を意図的に隠すことができ、競(jìng)爭(zhēng)相手を惑わし、競(jìng)爭(zhēng)相手の模倣、パクリの難度を高める目的を達(dá)成することができる。

例えば、図に示すように、新技術(shù)に対して特許レイアウトを行うとともに、不要な技術(shù)、劣化技術(shù)、セカンダリ技術(shù)についても関連する特許レイアウトを行い、競(jìng)合他社にプライマリとセカンダリの區(qū)別がつかず、重點(diǎn)が見えないようにする。特許出願(yuàn)書類を作成する際には、効果の悪い原料処方を好ましくし、いくつかの重要な技術(shù)點(diǎn)を隠すことを意図している。

2、対抗式レイアウト

保護(hù)式配置は企業(yè)の自主革新技術(shù)を十分に保護(hù)するものであるが、しばしば企業(yè)は自身の技術(shù)革新と同時(shí)に、競(jìng)爭(zhēng)相手も同時(shí)に技術(shù)革新を行うか、あるいは一歩先に技術(shù)革新を行い、特許を出願(yuàn)している。これらの特許は企業(yè)自身の研究開発方向に影響を與え、権利侵害リスクに直面する可能性もある。そのためには、競(jìng)合他社の特許に対して対抗的なレイアウトが必要である。

包括的特許レイアウト

組み合わせ式特許レイアウト

1）包含レイアウト

競(jìng)爭(zhēng)相手の核心特許に対して周辺特許の出願(yuàn)を行い、性能改善、技術(shù)最適化、技術(shù)手段置換、その他の応用分野などの角度から包囲し、競(jìng)爭(zhēng)相手の後続の改善出願(yuàn)を防止し、さらに競(jìng)爭(zhēng)相手を牽制し、それぞれにチップがある。

2）組合せレイアウト

競(jìng)合他社の研究開発方向に対して対抗式レイアウトを組み合わせ、例えば製品特許に対して、製品の上流原材料、プロセス、生産設(shè)備、検査設(shè)備、下流応用などを配置し、競(jìng)合他社の完全な縦方向レイアウトを防止する。

四、特許掘削レイアウトによる特許保護(hù)ネットワーク構(gòu)築の全體的な考え方

特許保護(hù)ネットワークの構(gòu)築は、技術(shù)、製品、地域、時(shí)間の4つの側(cè)面から全面的に配置することができ、この4つの側(cè)面は相互に関連し、相互依存し、相互促進(jìn)する。技術(shù)的には深さ、広さがあることを考慮し、奧行きのある発展、技術(shù)の改善、代替技術(shù)、関連技術(shù)のいくつかの角度から特許掘削と配置を行う。製品には全方位と階層を考慮し、製品の構(gòu)造、性能、機(jī)能、応用などの角度から特許掘削と配置を行う必要がある、地域では伝統(tǒng)市場(chǎng)、新興市場(chǎng)、潛在市場(chǎng)の角度から全面性と重點(diǎn)性を考慮し、時(shí)間的には技術(shù)分野、製品開発、特許出願(yuàn)の角度から継続性を考慮し、それによって完全な保護(hù)システムを形成する。

（1）技術(shù)

技術(shù)的な観點(diǎn)から特許保護(hù)ネットワークを構(gòu)築する際には、まず技術(shù)の深さと広さを考慮しなければならない。例えば、技術(shù)は常に性能改善の方向に向かって発展しているが、技術(shù)の発展は常にボトルネックに直面し、それに伴ってこの技術(shù)は放棄されたり、新しい技術(shù)に取って代わられたり、ボトルネックを突破して次の技術(shù)発展期に入ったりする。特許保護(hù)ネットワークは技術(shù)の広さと深さに対して、奧行きのある発展の角度から、技術(shù)の最新の発展方向を掘り出すだけでなく、技術(shù)のボトルネック點(diǎn)を予測(cè)し、技術(shù)の將來の発展方向を探求することを期待している。

（2）製品

1つの技術(shù)は通常、対応する製品に関連し、製品のモデルチェンジは技術(shù)の発展と直接的な関係がある。そのため、特許保護(hù)ネットワークを構(gòu)築する際には、技術(shù)を中心に特許マイニングとレイアウトを行った後、対応する製品に対して特許マイニングとレイアウトを行う必要があります。

製品の観點(diǎn)から特許レイアウトを行う場(chǎng)合は、まず製品レイアウトの全方位と階層を考慮しなければならない。製品は製品のミクロ構(gòu)造、マクロ構(gòu)造、原料組成、成分含有量及び製品性能などに関連し、設(shè)備は全體構(gòu)造、部品構(gòu)造、その他の補(bǔ)助構(gòu)造などに関連し、製造は原料、後処理、検査、中間品などに関連し、応用は使用方法、リサイクル、応用分野、例えば採(cǎi)油設(shè)備、石炭発電所設(shè)備、農(nóng)業(yè)、自動(dòng)車、家電、飲料、溶接、醫(yī)療、消火などの分野に及ぶ。

（3）地域

特許出願(yuàn)の地域性に基づいて、企業(yè)は特許を出願(yuàn)する際、自國(guó)での出願(yuàn)だけでなく、他の國(guó)での特許出願(yuàn)も考慮しなければならない。しかし、コストと効力の観點(diǎn)から、企業(yè)はすべての特許をすべての國(guó)で出願(yuàn)することはできないため、包括的かつ重點(diǎn)性の観點(diǎn)から特許保護(hù)ネットワークの構(gòu)築を行う必要がある。

企業(yè)が直面する競(jìng)爭(zhēng)環(huán)境の違いに対して、地域は伝統(tǒng)市場(chǎng)、新興市場(chǎng)、潛在市場(chǎng)に分けることができる、伝統(tǒng)的な市場(chǎng)は各企業(yè)の競(jìng)爭(zhēng)が最も激しい場(chǎng)所であり、いわゆる兵家必爭(zhēng)の地であり、特許は競(jìng)爭(zhēng)相手を打撃する武器としても頻繁に使用される。そのため、従來の市場(chǎng)に対して包括的な特許レイアウトを行う必要があり、コア特許だけでなく、周辺特許も申請(qǐng)し、特許ポートフォリオを形成し、特許保護(hù)網(wǎng)を構(gòu)築しなければならない。

（4）時(shí)間

特許の保護(hù)には具體的な期限があり、特許の授権に要求される新規(guī)性と創(chuàng)造性も出願(yuàn)日以前の先行技術(shù)と関係がある。特許を取得する観點(diǎn)からは、特許を早期に出願(yuàn)するほど特許の授権の確率は大きくなるが、技術(shù)情報(bào)を早期に公開し、技術(shù)開発の動(dòng)向を漏洩し、特許取得の保護(hù)期間も短くなる。特許出願(yuàn)が遅れれば遅れるほど、特許取得の保護(hù)期間は長(zhǎng)くなるが、特許付與の確率は小さくなり、競(jìng)合他社に先を越された場(chǎng)合は割に合わない。

五、まとめ

特許掘削の手段を用いて、関連する技術(shù)點(diǎn)（原料、技術(shù)、設(shè)備、応用などを含む）を全面的に整理し、調(diào)査し、そして十分な特許掘削を行う。

特許配置の方式を利用して、核心特許、重點(diǎn)特許、周辺特許及び迷特許などのタイプの特許を計(jì)畫設(shè)計(jì)することを通じて、関連技術(shù)に対して全面的な特許保護(hù)を行い、競(jìng)爭(zhēng)相手の模倣、パクリ、設(shè)計(jì)回避の難しさを増加し、會(huì)社製品の市場(chǎng)での優(yōu)位性を高める、パッケージ特許と組合せ特許の計(jì)畫設(shè)計(jì)を通じて、競(jìng)爭(zhēng)相手の特許が會(huì)社の生産経営に與える影響を削減し、それによって會(huì)社の製品が市場(chǎng)のリード地位を維持し続け、安定した市場(chǎng)制御力を獲得する。